电子半导体：晶圆清洗、光刻胶冲洗、芯片制造、超净车间用水（要求 18.2 MΩ）。

制药 / 生物：注射用水（WFI）、大输液、原料药、实验室细胞培养。

电力行业：高压 / 超临界锅炉补给水、汽轮机冷却、电厂化学水处理。

实验室 / 科研：有效液相（HPLC）、质谱（MS）、原子吸收、细胞 / 分子生物学用水。

其他：光伏、电镀、细化工、食品饮料、表面处理等用水。

记录：进水电导率、产水电阻率、浓水 / 淡水流量、膜堆电压 / 电流、进出口压差。

观察：有无泄漏、异响、仪表异常。

确保：浓水流量≥淡水 10%，防止结垢。

清洗前置保安过滤器滤芯（5 μm）。

检查 UV 灯运行状态、累计时长。

清洁 EDI 膜堆表面，检查接线与电极。

对 EDI 膜堆进行低压大流量冲洗（10–15 分钟）。

检测树脂与膜性能，必要时酸洗（pH 2–3，柠檬酸 / 盐酸）去除钙镁垢。

校准电阻率 / 电导率仪表。

更换 RO 膜前保安滤芯、终端精滤滤芯。

检查 EDI 膜堆内部，清理浓水室沉积物。